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高歩留まり最適化:より製造性の高い設計を実現するプロセスの合理化

高歩留まり最適化:より製造性の高い設計を実現するプロセスの合理化

従来の手法による光学系設計は、製造誤差と位置合わせの誤差に対して極めて敏感である場合が多く、再現性の高い光学製品の製造が困難になります。

新しい手法である高歩留まり最適化は、厳しい性能仕様を満たす設計を実現するとともに、製造歩留まりを高め、無駄を減らすことで製造コストを低減します。

以下の内容をご説明します:

  • 公称性能ではなく、製造後の性能の最適化方法

  • 設計プロセスの段階で一般的な製造欠陥を考慮する方法

  • 像質が良く、かつ入射角が小さい光学設計の解を見付ける方法 - これにより、得られた設計の製造時に公差に対する感度が低減されます。

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