プラハに拠点を置く ELI Beamlines 社は、放射線と粒子の短パルス二次光源の開発に注力しています。この驚異的な短パルスを生成し、数ジュール～キロジュールレベルまで増幅してペタワット～数ペタワットの出力を達成するために、ELI Beamlines はチャープパルス増幅（CPA）として知られるスキームを使っています。その最新の進化が、米国カリフォルニアのローレンスリバモア国立研究所（LLNL）がELI Beamlines との密接な協力の下で設計、構築した高繰り返し率高度ペタワットレーザーシステム（HAPLS）です。HAPLS は世界初となる最高平均出力のダイオード励起ペタワットシステム（300 ワット、繰り返し率 10 ヘルツ）です。

HAPLS の超高出力、超短パルス機能を達成するために、厳しい設計検証と極めて繊細なビーム伝搬機能が要求されました。Borneis 博士とELI Beamlines のチームは、OpticStudio を用いて、ビームの実験チャンバーへの伝搬時の位相振幅変調をモデル化しました。ビームは、軸外パラボラを用いた最大100 メートルの伝搬後に集光されます。そこからELI Beamlines は、OpticStudio を用いて強度変調の評価を行い、さらに新システムの試験運用時に許容可能な位相誤差を予測しました。

プラハに本社を置く ELI Beamlines 社は、Zemax OpticStudio 光学設計ソフトウェアを使用し、高繰り返し率レーザーペタワットレーザーシステム (HAPLS) の開発において、数年のプロジェクト期間と数百万ユーロの予算をどのように削減したかをご覧ください。 お客様事例を読む。

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