光学設計者は、性能仕様を満たすとともに、可能な限り製造不良を抑えた製品を開発する必要があります。以前から、コンピュータによる最適化を用いた光学設計では、シミュレートする光学系の光学的性能を表すために評価関数数値を使用してきました。そうした従来の設計手法では、まず設計の公称性能を最大化したうえで、後続する別の工程において、公称パラメータに製造公差を加えます。これによって、製造後の光学系でも仕様どおりの性能が実現されます。しかし、この手法による設計は、製造誤差と位置合わせ誤差に対して極めて敏感である場合が多く、再現性よく光学製品を製造することは困難です。

従来手法のこうした問題点を解決するのが、高歩留まり最適化と呼ばれる新しい手法です。この手法では設計後の工程ではなく設計プロセスの中で、光学系の製造欠陥に対する感度を低下させます。高歩留まり最適化手法は、厳しい性能仕様を満たす設計を実現するとともに、製造歩留まりを高め、無駄を減らすことで製造コストの削減につながります。

本 Web セミナーでは以下の内容をご説明します。

• OpticStudio 19.8　および 20.1 に追加された新機能

• 公称性能と製造後性能の違い

• 高歩留まり最適化の概要および仕組み

• 高歩留まり最適化の事例紹介

• 歩留まり解析