オンラインセミナー

Zemax OpticStudio と Ansys Lumerical RCWA の動的連携によるAR導波路の設計と最適化

AR(Augmented Reality)デバイスの市場はここ数年成長し、そのスピードはますます加速しています。その中で、回折型導波路は最も重要な設計の一つとなっています。本オンラインセミナーでは、導波路の設計と最適化を行うワークフローソリューションを紹介します。このワークフローでは、まず、1 次元または 2 次元のグレーティングを Lumerical で設計、解析します。そのグレーティングは、いくつかの定義されたパラメータによって形状が制御されるパラメータ化することができます。光線追跡を行う際に、OpticStudio は自動的に Lumerical RCWA をバックグラウンドで呼び出し、グレーティングの電場を解くための API を提供します。Lumerical のパラメータは、この API を通じて OpticStudio の UI に表示されます。OpticStudio UI からグレーティングの形状を変更し、Lumerical を実行として新しいデータを自動的に計算する方法を実演します。また、簡単な最適化の例も実演します。

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