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結像光学系の解像力と製造歩留まりを 両立する多目的最適化事例

光学設計において、設計値の光学性能と量産後の製造性能の両立は大きな課題となります。OpticStudio に搭載された高歩留まり最適化は、公差感度の低減を志向することで製造性の高い光学設計に収束します。

光学性能と製造性の関係性を見出すには、複数の評価関数を対象とする多目的最適化がソリューションとなり得ます。多目的最適化を搭載した汎用の設計者支援ツール modeFRONTIER は、OpticStudio との高い連携性を有しています。

株式会社 IDAJ との本共催ウェビナーでは、結像光学系を題材に取り上げ、OpticStudio と modeFRONTIER の連携によって解像力と製造歩留まりを両立する設計を探索し、製造性がより優れた光学設計に向けた検討を深めます。

<プレゼンタ>

Zemax Japan 株式会社 石川 孝史

株式会社 IDAJ 桑原 浩史

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