最新の OpticStudio 20.2 では、クイック歩留まりや公差データの解析などの新しい公差機能がそろいました。これ等を組み合わせることで、設計の早期段階でより製造性を重視した設計の方向性をを提供するような、新しいワークフローを確立することができます。その結果、設計者はより簡単に性能と製造性のバランスをとることができるようになりました。

本オンライン セミナーでは、今回のリリースに含まれる新機能をレビューし、この新機能によりどのようにして光学設計チームが製造コストを削減し、より優れた製品をより早く市場に投入するワークフローの実現について実演を行います。

具体的には以下の様な機能をご紹介します：

• モンテカルロ解析を実行しなくても、製造誤差やアライメント誤差が設計に与える影響を迅速に把握できる機能
• 製造性データを歩留まり曲線やヒストグラムとして表示する機能
• 600 以上の OpticStudio デザイン テンプレートのライブラリ機能