OpticStudio 21.1 では、シーケンシャル モードに新しいネイティブ体積ホログラムと回折効率解析ツールが導入されました。これにより、体積ホログラフィック グレーティングの完全なシミュレーションが可能になりました。回折効率を計算するための 3 つの新しい回折解析ツールも含まれています。また、貼り合わせ部品のアライメント誤差をモデル化するために、 6 つの新しいロール公差オペランドが追加されました。さらに、2 つの新しいラジアル方向におけるディセンタ公差オペランドが追加され、円形光学部品および円形マウントでの公差解析機能が拡張されました。 本 オンライン セミナーでは、OpticStudio 21.1 に追加されたこれらの新機能についてご説明します。

講演者:

松元　峻士
オプティカル エンジニア
Zemax Japan 株式会社