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製造性を高める設計を実現する 5 つのステップ

Zemax は、製造性を考慮し、迅速に公称性能と高い生産歩留まりのバランスを取るために設計のパラダイムを変更しています。

クイック歩留まり、高歩留まり最適化、ならびに公差解析データ解析といった機能を使用することで、光学設計者は設計過程の各段階において、設計に対する決定の影響を把握することができます。光学設計チームが設計上の選択による公差解析結果への影響をより深く理解できるようにすることで、生産コストを削減するだけでなく、最終的により良い製品をより迅速に市場へ投入することに繋がります。

製造性を高める設計

製造性を高める設計

製造性を高める設計を実現する 5 つのステップ

製造性を高める設計を実現する 5 つのステップ

迷光解析の方法

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OpticStudio コントラスト ロス マップ機能

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コントラスト最適化を使用した  MTF 性能の最適化

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光学製品設計およびシミュレーション ソフトウェア購入の指針となる 4 つのステップ

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光学製品の設計プロセスにおいて、いかに早くかつ賢く失敗する方法

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仮想試作を使ってソリッド ステート型 LIDAR の市場投入を加速化

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仮想現実ならびに拡張現実における光学設計の課題

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チェビチェフ多項式に基づく新たな自由曲面の設計と実装

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最新の仮想試作技術を使用して光学製品の市場導入を迅速化

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光学製品設計チームにとっての 6 つのベスト プラクティス

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