オンライン セミナー

OpticStudio を使用したマスク除染のための UV-C 照射チャンバーのモデリング


紫外線を用いた個人用保護具、特にマスクの除染は、マスクの再利用が行われる状況では非常に重要です。 UV-C 除染チャンバーの開発を支援するため、OpticStudio で長方形のキャビネットと円筒形の缶という 2 つの異なる形状の光線追跡モデルを構築しました。本オンライン セミナーでは、モデルの詳細を説明し、実験測定と比較して有利なシミュレーション結果をご紹介します。

**本オンライン セミナーは、英語での開催となりますのでご了承ください。

講師:

Dr. Jeff Wilde は、様々なアプリケーション分野にわたる多くの企業に向けた革新的な製品開発に 30 年以上の経験を持つ光学技術者です。また、スタンフォード大学のギンツトン研究所でリサーチ コンサルタントも務め、高度なファイバー通信技術や光学町解像度イメージングの研究に参加し、セキュリティ アプリケーション向けの X 線位相コントラスト結像系に関するプログラムの確立に尽力しました。Dr. Jeff Wilde は、1996 年に初めてリリースされた Zemax ソフトウェアを購入して以降の Zemax ユーザーです。

Modeling UV-C Irradiation chambers for mask decontamination webinar

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